离子束确定性添加装置及离子束抛光系统

（12）发明专利说明书

（21）申请号 CN201210135948.9 （22）申请日 2012.05.04

（71）申请人 中国人民解放军国防科学技术大学

地址 410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47号中国人民解放军国防科学技术大学三院机电系

（72）发明人 戴一帆;李圣怡;廖文林;解旭辉;周林;袁征 （74）专利代理机构 湖南兆弘专利事务所

代理人 赵洪

（10）申请公布号 CN102672550B

（43）申请公布日 2014.06.25

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

离子束确定性添加装置及离子束抛光系统

（57）摘要

本发明公开了一种应用于离子束抛光

系统的离子束确定性添加装置，包括支撑架、支撑架中装设的离子源和受该离子源发出的离子束轰击的靶材，支撑架包括有固定靶材的靶材固定夹具，支撑架上设置有用于截取靶材溅射原子流的光阑；支撑架底部装设有用于安装至离子束抛光系统的安装法兰。本发明还公开了一种离子束抛光系统，包括真空室以及相互连接的运动系统和离子源系统，离子束抛光系统中设有前述添加装置，正对添加装置的离子束发射方向布置有

材料去除工艺用夹具，正对添加装置的溅射原子流方向布置有材料添加工艺用夹具。本发明的装置结构简单、制作安装方便，可有效改善光学元件的表面粗糙度、修正光学镜面中高频误差。 法律状态

法律状态公告日2012-09-19 2012-11-14 2014-06-25

法律状态信息

公开

实质审查的生效 授权

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公开

实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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