专利名称：一种太阳能电池片的减反射膜及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：赵科雄,胡宇宁,冯克光,姜俊刚,范建都,韩志强申请号：CN201010219117.0申请日：20100630公开号：CN102315283A公开日：20120111
摘要：本发明提供一种太阳能电池片的减反射膜及其制备方法，减反射膜的成分主要为SiNx:H，减反射膜中距离减反射膜所依附的硅片表面为T处的SiNx:H中的X满足如下关系：X＝a-1.589×10T+3.728×10T-4.072×10T+1.535×10T；其中，a为减反射膜与硅片接触的底面中的氮硅比，1.00≤a≤2.0。本发明的减反射膜不仅显著提高了太阳能电池的光电转换效率，而且最大输出功率、开路电压、短路电流及填充因子等电化学性能也得到明显提高，使用寿命也明显增强。且本发明的方法可以在一个设备中一次实现，节约成本，产能高，且工艺简单易实现，具有较高的经济效益。
申请人：比亚迪股份有限公司
地址：518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号
国籍：CN
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