专利名称：低密度、高度多孔性纳米结构专利类型：发明专利发明人：付爱华
申请号：CN201380015164.5申请日：20130123公开号：CN104364188A公开日：20150218
摘要：本发明涉及具有低密度和多孔性涂层的纳米结构，所述涂层包裹着或者结合于至少一个核纳米粒子。该结构能够携带或结合纳米结构内部或表面的至少一个有效载荷以使得所述结构能够应用于如医学诊断或治疗。
申请人：纳维基因股份有限公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙)
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容