专利名称：一种监控光刻机台稳定性的方法及系统专利类型：发明专利发明人：李程,杨渝书,习艳军申请号：CN201510199044.6申请日：20150423公开号：CN104749906A公开日：20150701
摘要：本发明提供一种监控光刻机台稳定性的方法及系统，可以实时采集光刻机台的相关光刻工艺参数，通过向量化矩阵的分析手段，准确地监控光刻机台的运行情况，保证光刻机台工作的稳定性，同时其向量化矩阵的分析结果能够较准确地预测光刻后的结果；进一步地，这些预测结果可以用于对光刻机台的对焦深失稳或剂量异常等情况进行报警处理，从而提高了数据收集效率；此外，应用本发明所获得的预测结果，能有效减少因量测机台数量和吞吐量不足对于量测能力的需要，从而直接减少量测机台的购买需要，能够节约大量资金，降低光刻机台的监控运行成本。
申请人：上海华力微电子有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号
国籍：CN
代理机构：上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：王宏婧
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