专利名称：阵列基板及其制造方法、液晶显示器专利类型：发明专利发明人：刘翔,刘圣烈,薛建设申请号：CN201010189885.6申请日：20100524公开号：CN102263060A公开日：20111130
摘要：本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、液晶显示器。其中，方法包括在衬底基板上形成电极线图案和像素电极图案，沉积一导电层，并通过构图工艺形成电镀电极；通过电镀工艺在所述电镀电极上电镀形成由金属铜薄膜构成的所述电极线图案。本发明通过采用电镀工艺制作阵列基板上的金属铜薄膜材料的电极线图案，省去了现有技术中制作铜电极线图案最难的刻蚀工艺，解决了金属铜刻蚀效果差的问题，使得电镀形成的金属铜电极线图案非常致密、均匀，且导电性能好，黏附力强。
申请人：北京京东方光电科技有限公司
地址：100176 北京市经济技术开发区西环中路8号
国籍：CN
代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人：刘芳
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