微波-过氧化氢工艺处理含Cu-EDTA废水

ＣＩＥＳＣ　Ｊｏｕｒｎａｌ，２０１７，６８（１２）：４７５６－４７６３　化工学报２０１７年第６８卷第１２期『ｗｗｗ．ｈｇｘｂ．ｔｏｍ．ｃｎ　薪荑　‘　：３；≥≥，ｊ：０　；　０　ＤＯｈ　１０．１１９４９￣．ｉｓｓｎ．０４３８—１１５７．２０１７０７７６　微波．过氧化氢工艺处理含Ｃｕ—ＥＤＴＡ废水　王宏杰　，曹枯　，一，赵子龙　，一，董文艺　，　（　哈尔滨工业大学深圳研究生院，广东深圳５１８０５５；　深圳市水资源利用与环境污染控制重点实验室，广东深圳５１８０５５）　摘要：采用微波一过氧化氢工艺处理含Ｃｕ．ＥＤＴＡ废水，考察反应时间、初始ｐＨ、Ｈ２０２投加量、微波功率以及共　存物质等因素对该工艺处理效能的影响，并分析了氧化作用机制。结果表明，在初始ｐＨ为３，Ｈ２０２投加量为４１　ｍｍｏｌ・Ｌ～，微波功率为２１０　Ｗ时，１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ～Ｃｕ．ＥＤＴＡ反应１０　ａｉｒｎ后，Ｃｕ和ＴＯＣ去除率分别高达９７．０％和　６０．７％，出水电导率低至１．８　ｍＳ－ｃｍ～，产泥量仅为Ｏ．１５　ｇ＇Ｌ～。Ｎｏｉ的存在对Ｃｕ．ＥＤＴＡ的氧化降解过程无明显影　响，而Ｃ１－、Ｈ２Ｐｏ４和滔石酸对反应过程有一定的抑制作用。该工艺下反应４　ｍｉｎ后Ｃｕ．ＥＤＴＡ基本氧化为中间产　物，并在４～６　ｒａｉｎ内急剧降解，最终形成小分子羧酸类物质、ＮＨ３－Ｎ和无机碳。反应过程沉淀产物主要以ＣｕＯ　形式存在。相比Ｆｅｎｔｏｎ工艺，该工艺在氧化效能、出水电导率及产泥量等方面有显著优势。　关键词：微波．过氧化氢；Ｃｕ．ＥＤＴＡ；氧化；废水；芬顿；污染　中图分类号：ｘ　７８　文献标志码：Ａ　文章编号：０４３８—１１５７（２０１７）１２—４７５６—０８　Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｏｆ　Ｃｕ－ＥＤＴＡ　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｂｙ　ｍｉｃｒｏｗａｖｅ－Ｈ２０２　ｐｒｏｃｅｓｓ　ＷＡＮＧ　Ｈｏｎｇｊｉｅ　，ＣＡＯ　Ｚｈｅ　，ＺＨＡＯ　Ｚｉｌｏｎｇ　＇．，ＤＯＮＧ　Ｗｅｎｙｉ　，　（１Ｓｃｈｏｏｌ　ｏｆＣｉｖｉｌ　ａｎｄＥｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，Ｈａｒｂｉｎ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ　ｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　Ｓｈｅｎｚｈｅｎ　Ｇｒａｄｕａｔｅ　Ｓｃｈｏｏｌ，Ｓｈｅｎｚｈｅｎ　５　１　８０５５，　Ｇｕａｎｇｄｏｎｇ，Ｃｈｉｎａ；　ＳｈｅｎｚｈｅｎＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙ　ｏｆＷａｔｅｒＲｅｓｏｕｒｃｅＡｐｐｌｉｃａｔｉｏｎａｎｄＥｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌＰｏｌｌｕｔｉｏｎ　Ｃｏｎｔｒｏｌ，　Ｓｈｅｎｚｈｅｎ　５１８０５５，Ｇｕａｎｇｄｏｎｇ，Ｃｈｉｎａ）　Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｉｎ　ｔｈｅ　ｐｒｅｓｅｎｔ　ｓｔｕｄｙ，ｍｉｃｒｏｗａｖｅ—Ｈ２０２（ＭＷ－Ｈ２０２、ｐｒｏｃｅｓｓ　ｗａｓ　ａｐｐｌｉｅｄ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｏｆ　Ｃｕ—ＥＤＴＡ　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ．Ｔｈｅ　ｅｆｆｅｃｔｓ　ｏｆ　ｒｅａｃｔｉｏｎ　ｔｉｍｅ，ｉｎｉｔｉａｌ　ｐＨ，Ｈ２Ｏ２　ｄｏｓａｇｅ，ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ　ａｎｄ　ｃｏｅｘｉｓｔｅｎｔ　ｓｕｂｓｔａｎｃｅｓ　ｗｅｒｅ　ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄ　ｉｎ　ｄｅｔａｉｌ．Ｔｈｅ　ｃｏｒｒｅｓｐｏｎｄｉｎｇ　ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｍｅｃｈａｎｉｓｍ　ｏｆ　ＣＵ—ＥＤＴＡ　ｗａｓ　ａｌｓｏ　ｄｅｓｃｒｉｂｅｄ．　Ｔｈｅ　ｒｅｓｕｌｔｓ　ｓｈｏｗｅｄ　ｔｈａｔ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　ｅｌｉｍｉｎａｔｉｏｎ　ｏｆ　１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ～Ｃｕ—ＥＤＴＡ．ｔｈｅ　ｈｉｇｈｅｓｔ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｅ所ｃｉｅｎｃｉｅｓ　ｏｆ　Ｃｕ　（９７．０％）ａｎｄ　ＴＯＣ（６０．７％）ｗｅｒｅ　ａｃｈｉｅｖｅｄ　ｕｎｄｅｒ　ｔｈｅ　ｏｐｔｉｍｕｍ　ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ（ｊ．ｅ．ｉｎｉｔｉａｌ　ｐＨ　３，Ｈ２０２　ｄｏｓａｇｅ　４１　ｍｍｏｌ・Ｌ～，ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ　２１０、　ａｎｄ　ｒｅａｃｔｉｏｎ　ｔｉｍｅ　１０　ｍｉｎ）．Ｉｎ　ｔｈｉｓ　ｓｉｔｕａｔｉｏｎ．ｔｈｅ　ｅｆｌｕｅｎｔｆ　ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｉｔｙ　ｄｅｃｒｅａｓｅｄ　ｔｏ　１．８　ｍＳ‘ｃｍ－　，ａｎｄ　ｏｎｌｙ　０．１５　ｇ’Ｌ～ｏｆ　ｔｈｅ　ｓｌｕｄｇｅ　ｙｉｅｌｄ　ｗａｓ　ｇｅｎｅｒａｔｅｄ．Ｔｈｅ　ｐｒｅｓｅｎｃｅ　ｏｆ　ｃｏｅｘｉｓｔｅｎｔ　ｓｕｂｓｔａｎｃｅｓ　ｓｕｃｈ　ａｓ　ＮＯ　３　ｈａｄ　ｎｅａｒｌｙ　ｎｏ　ｅｆｆｅｃｔｓ　ｏｎ　ｔｈｅ　ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ，ｗｈｉｌｅ　Ｃ１一，Ｈ２ＰＯ４　ａｎｄ　ｔａｒｔａｒｉｃ　ａｃｉｄ　ｗｅｒｅ　ｕｎｆａｖｏｒａｂｌｅ　ｔｏ　ｔｈｅ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ　ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｃｕ．ＥＤＴＡ．Ａｆｔｅｒ　ｔｒｅａｔｅｄ　ｆｏｒ　４　ｍｉｎ，Ｃｕ．ＥＤＴＡ　ｗａｓ　ａｌｍｏｓｔ　ｔｏｔａｌｌｙ　ｏｘｉｄｉｚｅｄ　ｔｏ　ｖａｒｉｏｕｓ　Ｃｕ．ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅｓ．ｗｈｉｃｈ　ｒａｐｉｄｌｙ　ｄｅｇｒａｄｅｄ　ｗｉｔｈｉｎ　４—６　ｍｉｎ．１ｅａｄｉｎｇ　ｔｏ　ｔｈｅ　ｆｉｎａｌ　ｆｏｒｍａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｌｏｗ　ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　ｏｒｇａｎｉｃ　ａｃｉｄｓ，ＮＨ３－Ｎ，ａｎｄ　ｉｎｏｒｇａｎｉｃ　ｃａｒｂｏｎ．Ｔｈｅ　ｓｏｌｉｄ　ｓｌｕｄｇｅ　ｍａｉｎｌｙ　ｐｒｅｓｅｎｔｅｄ　ｉｎ　ｈｅ　ｔｆｏｒｍｓ　ｏｆ　ＣｕＯ．　Ｃｏｍｐａｒｅｄ　ｗｉｔｈ　ｔｒａｄｉｔｉｏｎａｌ　Ｆｅｎｔｏｎ　ｐｒｏｃｅｓｓ，ＭＷ－Ｈ２０２　ｐｒｏｃｅｓｓ　ｅｘｈｉｂｉｔｅｄ　ｍｏｒｅ　ｅｘｃｅｌｌｅｎｔ　ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ　ｉｎ　ｔｅｒｍｓ　ｏｆ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ　ｅｆｉｃｉｆｅｎｃｙ，ｅｍｕｅｎｔ　ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｉｔｙ　ａｎｄ　ｓｌｕｄｇｅ　ｙｉｅｌｄ．　２０１７—０６．１５收到初稿，２０１７—０８—１　１收到修改稿。　Ｒｅｃｅｉｖｅｄ　ｄａｔｅ：２０１７一Ｏ６－ｌ５．　联系人：赵子龙。第一作者：王宏杰（１９８３一），男，博士，副研　究员。　Ｃｏｒｒｅｓｐｏｎｄｉｎｇ　ａｕｔｈｏｒ：ＤＴ．ＺＨＡＯ　Ｚｉｌｏｎｇ．ｂｅｒｔｈｉｌｌｏｎ＠ｈｏｔｍａｉｌ．ｔｏｍ　Ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎ　ｉｔｅｍ：ｓｕｐｐｏｒｔｅｄ　ｂｙ　ｔｈｅ　Ｕｒｂａｎ　Ｗａｔｅｒ　Ｐｏｌｌｕｔｉｏｎ　Ｃｏｎｔｒｏｌ　ａｎｄ　基金项目：国家水体污染控制与治理科技重大专项（２０１２ＺＸ０７２０６－００２）：　Ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ　Ｇｅｎｅｔｉｃ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ　Ｐｒｏｇｒａｍ（２０１２ＺＸ０７２０６－００２）　ａｎｄ　ｔｈｅ　Ｋｎｏｗｌｅｄｇｅ　Ｉｎｎｏｖａｔｉｏｎ　Ｐｒｏｇｒａｍ　ｏｆ　Ｓｈｅｎｚｈｅｎ　Ｂａｓｉｃ　Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｐｒｏｊｃｏｔ　（ＪＣＹＪ２０１６０３１８０９３９３０４９７）．　深圳市科技计划项目（ＪＣＹＪ２０１６０３１８０９３９３０４９７）。　第１２期　Ｋｅｙ　ｗｏｒｄｓ：ｍｉｃｒｏｗａｖｅ－－ｈｙｄｒｏｇｅｎ　ｐｅｒｏｘｉｄｅ；Ｃｕ－－ＥＤＴＡ；ｏｘｉｄａｔｉｏｎ；ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ；Ｆｅｎｔｏｎ；ｐｏｌｌｕｔｉｏｎ　・４７５７・　引　言　以Ｃｕ．ＥＤＴＡ为典型代表的重金属络合物普遍　存在于化学镀铜工业废水中，该类废水具有络合稳　定性强、可生化降解性差和急性毒性强等特性，易　对水体、土壤环境及人体健康造成严重威胁。目前，　针对含Ｃｕ—ＥＤＴＡ废水的处理方式主要包括化学沉　淀　¨、离子交换　、物理吸附［３】、膜分离　和高级氧　化（如光电催化Ｌ５　】、臭氧氧化【７Ｊ和（类）芬顿氧　化【８　】）等方法。其中以芬顿（Ｆｅｎｔｏｎ）工艺应用最　为广泛【　］。但反应过程中铁源的介入及Ｆｅ　＋／Ｆｅ　的　循环转化也导致了该方法存在氧化效率低、出水电　导率及产泥量高等诸多缺陷Ｌｌ¨。　近年来，微波（ｍｉｃｒｏｗａｖｅ，Ｍｗ）辅助高级氧　化工艺在水处理领域受到国内外学者广泛关注。研　究表明，微波可实现分子水平加热，具有降低极性　分子反应活化能和提高污染物处理效率等特点【１　。　将微波与过氧化氢耦合（ＭＷ－Ｈ２０２），可强化Ｈ２Ｏ２　解离生成・ＯＨ，并提高Ｈ２Ｏ２利用率，适用于阳离子　染料【１２］、苯酚［　、磺化芳香化合物［１４］、农药　等诸　多难降解有机污染物的氧化降解。由于仅添加Ｈ２０２　氧化剂，ＭＷ－Ｈ２Ｏ２工艺避免了Ｆｅ　的二次污染及污　泥产生，具有克服传统Ｆｅｎｔｏｎ工艺缺陷的潜在优势。　截止目前，利用ＭＷ－Ｈ２Ｏ２工艺处理含　Ｃｕ—ＥＤＴＡ废水尚未有所报道。本文通过小试实验，　探索ＭＷ－Ｈ２０２工艺氧化降解含Ｃｕ．ＥＤＴＡ废水的可　行性。考察了反应时间、初始ｐＨ、Ｈ２Ｏ２投加量、　微波功率以及共存物质等因素对工艺处理效能的影　响，并从去除效率、产泥量和出水电导率等方面与　传统Ｆｅｎｔｏｎ工艺进行对比，为实际化学镀铜废水的　绿色高效处理提供理论依据。　１实验材料和方法　１．１试剂　主要试剂包括：五水硫酸铜（ＣｕＳＯ４＂５Ｈ２Ｏ，分　析纯，天津光复化学试剂厂）；乙二胺四乙酸二钠　（Ｃ１ｏＨｌ６Ｎ２ＯｓＮａ２，分析纯，阿拉丁试剂有限公司）；　过氧化氢（Ｈ２Ｏ２，分析纯，体积分数３０％，阿拉丁　试剂有限公司）；七水硫酸亚铁（ＦｅＳＯ４＂７Ｈ２Ｏ，分　析纯，阿拉丁试剂有限公司）；草酸钛钾（分析纯，　阿拉丁试剂有限公司）等。　１．２实验方法　（１）模拟废水配制：称取１．５７　ｇ　ＣｕＳＯ４＂５Ｈ２Ｏ　和２．３４　ｇ　Ｃ１ｏＨｌ６Ｎ２Ｏ８Ｎａ２溶于４　Ｌ去离子水中，配制　１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ＿。Ｃｕ．ＥＤＴＡ溶液，其中Ｃｕ（ＩＩ）与ＥＤＴＡ　的摩尔比为１：１。　（２）ＭＷ－Ｈ２Ｏ２工艺：量取１００ｍｌＣｕ．ＥＤＴＡ溶　液于２５０　ｍｌ锥形瓶，通过５％Ｈ２ＳＯ４或ｌ０％ＮａＯＨ　调节溶液ｐＨ，加入适量Ｈ２Ｏ２迅速摇匀后，置于微　波化学反应器（ＷＢＦＹ－２０１，巩义市科瑞仪器，中　国）中进行反应。定时取样，过０．４５岬滤膜后测　定出水电导率、ｐＨ、ＮＨ３－Ｎ和Ｈ２Ｏ２浓度；调节试　样ｐＨ至１０，经沉淀过膜后测定ＴＯＣ和Ｃｕ浓度。　（３）Ｆｅｎｔｏｎ工艺：量取１００　ｍｌ　Ｃｕ．ＥＤＴＡ溶液　于２５０　ｍｌ锥形瓶，调节溶液ｐＨ并加入适量ＦｅＳＯ　及ｎ２０２，迅速摇匀后置于常温下反应。取样及分析　方法同ＭＷ－Ｈ２Ｏ２工艺。　１．３分析方法　ＴＯＣ和ＩＣ浓度采用总有机碳检测仪（Ｔ０Ｃ．Ｌ　ＣＰＮ，岛津分析仪器，日本）进行测定，其中在酒　石酸存在情况下，考虑其本身所含有机物对ＴＯＣ　去除率的影响；利用电感耦合等离子体　（Ｏｐｔｉｍａ８０００，ＰＥ，美国）测定Ｃｕ浓度；出水电　导率通过电导率仪（ＦＥ３０Ｋ，梅特勒．托利多，瑞士）　进行测定；采用便携式ｐＨ测量仪（ｐｉｌｌ００，ＹＳＩ，　美国）测定溶液ｐＨ：基于纳氏试剂分光光度法和草　酸钛钾分光光度法，利用紫外．可见光光度计　（ｕＶ２６００，岛津分析仪器，日本）测定ＮＨ３－Ｎ和　Ｈ２Ｏ２浓度，并在１９０￣４００ｎｍ波长范围内进行紫　外．可见光光谱扫描；使用ｘ射线光电能谱仪（ＸＰＳ，　ＰＨＩ　５０００　ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅ　ＩＩ，ＵＬＶＡＣ．ＰＨＩ，日本）及原　位ｘ射线粉末衍射仪（ｘＲＤ，Ｄ８　ａｄｖａｎｃｅ，布鲁克　光谱，德国）进行污泥组分分析；产泥量通过烘干　称重法进行测定。　２实验结果与讨论　２．１初始ｐＨ对ＭＷ—Ｈ２０２工艺处理效率的影响　溶液ｐＨ直接决定反应过程中重金属的形态分　布、催化剂的反应活性及过氧化氢的稳定性。当　Ｃｕ．ＥＤＴＡ初始浓度为１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ～，Ｈ２Ｏ２投加量　为４１　ｍｍｏｌ・Ｌ一，微波功率为２１０　Ｗ，反应时间为　１０　ｍｉｎ时，初始ｐＨ（ｐＨ０）对ＭＷ－Ｈ２０２工艺处理　・４７５８・　化工学报　第６８卷　效率的影ｎｉＸｅＤ图１所示。由图可知，受溶液ｐＨ、微　有机碳矿化的进行。　＼分【Ｉ　ｕ一篁　ＴＢ　。ｇ　＿Ｉ＝　摹＼　皇。ｌ波效应、重金属络合物形态变化［１　６］及过渡金属催　化Ｌ１　】等因素综合作用，反应过程中Ｃｕ和ＴＯＣ去　除率的变化较为复杂。但反应１０　ｍｉｎ后，其最终去　除率随ｐＨ０的增加均呈先升后降的趋势，并在ｐＨ。　为３时达到最佳，分别为９７．１％和６０．６％。结合相　关文献可以推断，ｐＨ０较低时，受过量Ｈ　影响，Ｈ２Ｏ２　发生无效损耗［式（１）］并生成反应活性较低的水合　氢离子［式（２）］ｕ　，无法促成Ｃｕ．ＥＤＴＡ的有效降　解，因而表现出较低的去除率。当ｐＨ。增加至３时，　经微波及Ｃｕ２　催化作用，Ｈ２０２可实现・ＯＨ的稳定转　化［式（３）～式（７）］，且Ｃｕ．ＥＤＴＡ质子化产物　ＣｕＨＥＤＴＡ一更易与・ＯＨ结合，促进Ｃｕ和ＴＯＣ的去　除【７Ｊ。ｐＨｏ大于３时，体系去除率明显降低，主要归　因于（１）偏中性和碱性条件・ＯＨ氧化还原电位（Ｅｏ）　逐渐衰减［ｚｏＪ；（２）ｐＨ０高于４．２时，游离态Ｃｕ（ＩＩ）　逐渐沉淀，导致羟基自由基产生量不断减少；（３）　碱性条件下氧化中间产物Ｃｕ（Ｉｌ１）成为主要活性物　质，较・ＯＨ而言其活性偏低Ｌ２　，不利于氧化破络和　ｔ／ｒａｉｎ　ｆｂ１　图１初始ｐＨ对Ｃｕ和ＴＯＣ去除效能的影响　Ｆｉｇ．１　Ｅｆｆｅｃｔ　ｏｆ　ｉｎｉｔｉａｌ　ｐＨ　ｏｎ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｅｆｉｆｃｉｅｎｃｉｅｓ　ｏｆ　Ｃｕ　ａｎｄ　ＴＯＣ　ｉｎ　ＭＷ—Ｈ２０２　ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｃｕ．ＥＤＴＡ　ｉｎｉｔｉａｌ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ＝　１．５７　ｍｍｏｌ　Ｌ－　，Ｈ２Ｏ２　ｄｏｓａｇｅ＝４１　ｍｍｏｌ・Ｌ～，ｍｉｃｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ＝２１０　Ｗ、　。ＯＨ＋２ｉ－ｉ＋＋２ｅ－一Ｈ２Ｏ　（１）　Ｈ２Ｏ２＋Ｈ　一Ｈ３０　（２）　Ｈ２０２＋ＭＷ一’ＯＨ　（３）　Ｈ２Ｏ２＋Ｃｕ（ＩＩ）——Ｃｕ（Ｉ）＋Ｈ　＋ＨＯ２・　（４）　Ｈ２０２＋Ｃｕ（Ｉ）一Ｃｕ（ＩＩ）＋ＯＨ－＋‘ＯＨ（５）　Ｈ２０２＋Ｃｕ（Ｉ）＋２Ｈ　一Ｃｕ（ＩＩＩ）十２Ｈ２Ｏ　（６）　Ｃｕ（ＩＩＩ）——Ｃｕ（ＩＩ）＋‘ＯＨ＋Ｈ　（７）　２．２　Ｈ２ｏ２投加量对ＭＷ．Ｈ２０２工艺处理效率的影响　在Ｃｕ。ＥＤＴＡ初始浓度为１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ～，ｐＨ０　为３，微波功率为２１０　Ｗ，反应时间为１０　ｍｉｎ条件　下，考察Ｈ２Ｏ２投加量对ＭＷ－Ｈ２０２工艺处理效率的　影响。如图２所示，当Ｈ２Ｏ２投加量从８　ｍｍｏｌ・Ｌ　增加至４１　ｍｍｏｌ・Ｌ　时，Ｃｕ去除率从５５．Ｏ％提高至　９６．９％，ＴＯＣ去除率从２９．９％上升至６０．６％。可以看　出，适量浓度的Ｈ２Ｏ２有利于体系氧化效能的提高。　过量Ｈ２Ｏ２易与・ＯＨ发生副反应【式（８）～式（１０）］，　对ＴＯＣ去除率的进一步提高具有抑制效应［　，但　对Ｃｕ去除率影响较小。该条件下两者的变化差异　主要归因于不同的去除机理。Ｋａｂｄａ￣ｈ等［２３】认为仅　ｔ／ｒａｉｎ　（ｂ）　图２　Ｈ２０２投加量对Ｃｕ和ＴＯＣ去除效能的影响　Ｆｉｇ．２　Ｅｆｆｅｃｔ　ｏｆ　Ｈ２Ｏ２　ｄｏｓａｇｅ　ｏｎ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｅｆｉｆｃｉｅｎｃｉｅｓ　ｏｆ　Ｃｕ　ｎａｄ　ＴＯＣ　ｉｎ　Ｍｗ—Ｈ２Ｏ２　ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｃｕ—ＥＤＴＡ　ｉｎｉｔｉａｌ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ＝１．５７　ｍｍｏｌ‘Ｌ～，ｉｎｉｔｉａｌ　ｐＨ＝３，ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ＝２１０Ｗ、　第１２期　ｗｗｗ．ｈｇｘｂ．ｔｏｍ．ｃｎ　・４７５９・　通过氧化部分有机物，即可破坏金属．络合物间的配　位键，从而促进络合态重金属向游离态转变。因此，　相对于有机物的完全矿化，络合态重金属的游离需　要较少的羟基自由基。在本研究中，Ｈ２Ｏ２泯灭情况　下产生的羟基自由基仍能满足络合体系的破络，但　削弱了ＴＯＣ的去除能力，因而表现出不同氧化特　性。综合污染物去除效率及经济性考虑，确定该初　始条件下的最佳Ｈ２Ｏ２投加量为４１　ｍｍｏｌ・Ｌ～。　Ｈ２０２＋。ＯＨ—ＨＯ２。＋Ｈ２０　（８）　’ＯＨ＋ＨＯ０。一Ｏ２＋Ｈ２Ｏ　（９）　’ＯＨ＋。ＯＨ—Ｈ２０２　（１０）　２．３微波功率对ＭＷ—Ｈ２Ｏ２工艺处理效率的影响　在Ｃｕ．ＥＤＴＡ初始浓度为１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ～，Ｈ２Ｏ２　投加量为４１　ｍｍｏｌ・Ｌ一，ｐＨｎ为３，反应时间为１０　ｍｉｎ　时，微波功率对体系中Ｃｕ和ＴＯＣ去除效率的影响　如图３（ａ）、（ｂ）所示。随着微波功率的增强，污　染物分子热运动加剧，反应体系升温速率明显加快，　达到沸腾温度所需的时间迅速缩短［图３（ｃ）］。Ｌｉｕ　等【２４］认为高温条件有利于加速Ｈ２Ｏ２解离形成・ＯＨ，　增加污染物分子与・ＯＨ间的反应概率。因此，该反　应阶段（即０～６ｍｉｎ范围内）微波功率的增强对体　系中Ｃｕ和ＴＯＣ的去除具有促进作用。然而，恒定　温度条件下（即６～１０ｍｉｎ范围内），微波功率的增　强并未明显改变Ｃｕ和ＴＯＣ的去除效率，当微波功　率高于２１０　Ｗ时甚至表现出一定的降解抑制作用，　这可能是由于在高微波功率下反应体系剧烈的分子　热运动导致・ＯＨ之间的自由基终止反应。Ｚａｌａｔ等【２５Ｊ　指出，微波的致热效应主要源于水及极性分子对微　波能量的吸收，而非热效应则对应于温度及其他过　程参数恒定条件下反应体系化学、生化或物理行为　的改变。可以看出，ＭＷ－Ｈ２Ｏ２工艺氧化降解　Ｃｕ—ＥＤＴＡ过程中，微波具有双重作用。考虑到高功　率微波的能耗及其抑制作用，确定最佳微波功率为　２１０Ｗ。　２．４共存物质对ＭＷ—Ｈ２Ｏ２工艺处理效率的影响　结合实际废水中共存物质组成及其浓度分布，　选择Ｃ１一、ＮＯｊ、Ｈ２Ｐ０４（浓度均为ｉ０　ｍｍｏｌ・Ｌ－　）　和浓度为１．５　ｍｍｏｌ・Ｌ　的酒石酸（ｔａｒｔａｒｉｃ　ａｃｉｄ，ＴＡ）　为典型代表，研究共存物质对ＭＷ－Ｈ２０２工艺去除　Ｃｕ和ＴＯＣ的影响。　由图４可知，Ｃ１一存在情况下，反应初期（＜４　ｍｉｎ）Ｃｕ和ＴＯＣ去除率明显降低，可能是因为Ｃｌ－　与Ｃｕ．ＥＤＴＡ氧化破络释放的游离态Ｃｕ２　反应生成　ＣｕＣ１　、ＣｕＣＩ２等络合物，阻碍Ｃｕ２　催化Ｈ２Ｏ２产生　＼０Ｊｎ＿ＢＪ＆ｇ　图３微波功率对Ｃｕ和ＴＯＣ去除效能的影响及　反应体系温度的变化　Ｆｉｇ．３　Ｅｆｆｅｃｔ　ｏｆ　ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ　Ｏｉｌ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｉｅｓ　ｏｆ　Ｃｕ　ａｎｄ　ＴＯＣ　ｉｎ　ＭＷ－Ｈ２０２　ｓｙｓｔｅｍｓ　ａｎｄ　ｃｏｒｒｅｓｐｏｎｄｉｎｇ　ｖａｒｉａｔｉｏｎ　ｏｆｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ（Ｃｕ－ＥＤＴＡ　ｉｎｉｉｔａｌ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ＝１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ～，ｉｎｉｔｉａｌ　ｐＨ：３，Ｈ２Ｏ２　ｄｏｓａｇｅ＝４１　ｍｍｏｌ・Ｌ－　）　・ＯＨ［２６］；随着体系温度不断上升，上述络合物逐渐　失稳而重新解离，因此最终去除率与对照组几乎无　差异。理论上，在酸性条件下，ＮＯ３可以与Ｃｕ　发　生氧化反应，降低・ＯＨ生成量［式（１１）］，对有机　物的氧化降解具有抑制作用。然而，随着反应的进　行，ＮＯ３－不断被消耗并以ＮＯ２气态形式逸出，表现　为抑制作用的逐渐削减。在微波辐射作用下，　Ｃｕ．ＥＤＴＡ的氧化破络过程受Ｎ０ｊ干扰较小，Ｃｕ和　ＴＯＣ去除率变化趋势几乎与对照组完全一致。由于　・４７６０・　化工学报　第６８卷　ｔ／ｍｉｎ　（ｂ）　图４共存物质对Ｃｕ和ＴＯＣ去除效能的影响　Ｆｉｇ．４　Ｅｆｌｆｅｃｔ　ｏｆ　ｃｏｅｘｉｓｔｅｎｔ　ｓｕｂｓｔａｎｃｅｓ　Ｏｌｌ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｉｅｓ　ｏｆ　Ｃｕ　ａｎｄ　ＴＯＣ　ｉｎ　Ｍｗ—Ｈ２Ｏ２　ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｃｕ－ＥＤＴＡ　ｉｎｉｔｉａｌ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ＝１．５７ｍｍｏｌ‘Ｌ－　，ｉｎｉｔｉａｌｐＨ＝３，Ｈ２０２ｄｏｓａｇｅ：　４１　ｍｍｏｌ‘Ｌ一，ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ　２１０　Ｗ）　Ｈ２ＰＯ　具有还原性，易与Ｃｕ－ＥＤＴＡ争夺・ＯＨ【２　，并　被氧化为次磷酸根和磷酸根，因此反应初期Ｃｕ及　ＴＯＣ去除率相对较低；而反应４　ｍｉｎ后去除速率大　幅增加，与对照组相比最终去除率略有提高，可能　是因为Ｃｌｌ２　与磷酸根生成的淡蓝色Ｃｕ３（ＰＯ４）２沉淀　在微波作用下具有“热点”效应【２引，从而增强了体　系的氧化效能。　Ｃｕ（Ｉ）＋ＮＧ＋２Ｈ　一Ｃｕ（ＩＩ）＋ＮＯ２＋Ｈ２Ｏ　（１１）　酒石酸作为有机络合剂，可以与Ｃｕ形成多配　体络合物，不利于Ｃｕ以及ＴＯＣ的去除；同时由于　亲电子剂・ＯＨ几乎可以与富电子有机化合物进行非　选择性反应【２剐，因此自身氧化降解过程中，酒石酸　将竞争性消耗・ＯＨ，从而导致Ｃｕ．ＥＤＴＡ氧化降解过　程中Ｃｕ和ＴＯＣ去除效率的显著降低。　２．５　ＭＷ．Ｈ２ｏ２工艺处理Ｃｕ．ＥＤＴＡ机制分析　为进一步了解ＭＷ－Ｈ２０２工艺处理Ｃｕ．ＥＤＴＡ的　反应机制，在Ｃｕ．ＥＤＴＡ初始浓度为１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ～，　ｐＨ０为３，Ｈ２Ｏ２投加量为４１　ｍｍｏｌ・Ｌ～，微波功率为　２１０　Ｗ情况下，考察了Ｃｕ．ＥＤＴＡ降解过程中紫外一　可见光吸收光谱随时间的变化，结果如图５所示。　Ｃｕ．ＥＤＴＡ紫外特征吸收峰位于２４０　ｎｍ附近Ｌ２　，主　要归因于重金属．有机络合物体系中电子给体　ＥＤＴＡ与电子受体Ｃｕ（ＩＩ）间产生的电荷转移跃迁。　经ＭＷ－Ｈ２Ｏ２工艺氧化处理３　ｍｉｎ后，该特征峰吸光　度略有减少，表明部分Ｃｕ．ＥＤＴＡ络合体系已被破　坏。当反应时间延长至４　ｍｉｎ时，２４０　ｎｍ处特征峰　基本消失，主要特征吸收峰蓝移至２１０　ｎｍ附近，　并在２４０　ｎｍ处伴有肩峰产生。Ｘｕ等　ｊ认为前者主　要归属于Ｃｕ．ＥＤ２Ａ和Ｃｕ．ＥＤＭＡ，而后者主要归属　于Ｃｕ．ＩＭＤＡ和Ｃｕ．ＮＴＡ。可以推测，在该阶段　Ｃｕ．ＥＤＴＡ几乎被完全氧化，并生成Ｃｕ—ＥＤ２Ａ、　Ｃｕ—ＥＤＭＡ、Ｃｕ—ＩＭＤＡ和Ｃｕ．ＮＴＡ等多种中间产物。　微波作用４～６　ｍｉｎ范围内，上述中问产物大幅降　解，表现为主要特征吸收峰的不断蓝移及肩峰吸光　度的显著降低，这与最佳条件下Ｃｕ和ＴＯＣ的快速　去除相吻合。当反应时间达到８～１０　ｍｉｎ时，反应　基本达到平衡，仅２０６　ｎｎｌ处存在特征吸收峰。Ｈｕａｎｇ　等［７］指出，Ｃｕ．ＥＤＴＡ的降解路径主要是去羧基化，　在矿化不彻底时生成羧酸类中间产物（如水合乙醛　酸、草酸等）。因此，反应体系中仍有部分羧酸类物　质未完全降解，这与ＴＯＣ最终去除效率（６０．７％）　相一致。　图５　Ｃｕ．ＥＤＴＡ降解过程紫外吸收光谱变化　Ｆｉｇ．５　Ｖａｒｉａｔｉｏｎｓ　ｏｆｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ　ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ　ｓｐｅｃｔｒｕｍｓ　ｏｆ　Ｃｕ－ＥＤＴＡ　ｏｘｉｄｉｚｅｄ　ｂｙ　ＭＷ－Ｈ２Ｏ２　ｐｒｏｃｅｓｓ（Ｃｕ－ＥＤＴＡ　ｉｎｉｔｉ￣　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ＝１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ～，ｉｎｉｔｉａｌ　ｐＨ＝３，Ｈ２Ｏ２　ｄｏｓａｇｅ＝　４１　ｍｍｏｌ　Ｌ～，ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ＝２１０　Ｗ）　Ｃｕ—ＥＤＴＡ氧化降解过程中对应的氨氮　（ＮＨ３．Ｎ）、无机碳浓度（ＩＣ）和ｐＨ变化如图６所　示。随着反应时间的增加，ＮＨ３．Ｎ浓度不断累积。　在微波作用２～４　ｍｉｎ时其增长速率最为明显，表明　经微波作用，Ｃｕ—ＥＤＴＡ分子结构中一Ｎ一（ｃＨ２一　Ｃ０ＯＨ）一官能团优先发生Ｎ—Ｃ断裂生成水合乙醛　酸，并进一步氧化降解形成ＮＨ３－Ｎ；而反应后期　第１２期　＿＿１　ｇ／ｕ０写扫Ｉｌ８Ｉｌ８　・４７６ｌ・　ＮＨ３－Ｎ浓度的增长则主要归因于Ｃｕ．ＥＤＴＡ脱酸中　间产物形成的小分子有机酸的进一步降解。对应于　ＮＨ３一Ｎ浓度的变化，反应体系ｐＨ从初始值３自发　增长至８，可以推测其增加原因主要是ＮＨ３一Ｎ的生　成以及脱酸中间体的质子化作用［７　训。此外，ＩＣ随　时间增加呈缓慢增长趋势，表明有机物矿化产生的　鱼　兽　兽　ＣＯ２对反应体系ｐＨ的变化影响较小。　ｔ／ｒａｉｎ　图６　Ｃｕ・ＥＤＴＡ氧化降解过程ＮＨ３．Ｎ、ＩＣ浓度及ｐＨ变化　Ｆｉｇ．６　Ｖａｒｉａｔｉｏｎｓ　ｏｆＮＨ３－Ｎ．ＩＣ　ａｎｄ　ｐＨ　ｉｎ　ＭＷ－Ｈ２０２　ｓｙｓｔｅｍｓ　ｆｏｒ　Ｃｕ—ＥＤＴＡ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ（Ｃｕ－ＥＤＴＡ　ｉｎｉｔｉａｌ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ＝１．５７　ｍｍｏｌ‘Ｌ～，ｉｎｉｔｉａｌ　ｐＨ　３，Ｈ２０２　ｄｏｓａｇｅ　４１　ｍｍｏｌ‘Ｌ～，　ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ＝２１０　Ｗ、　２．６污泥组成分析　对ＭＷ－Ｈ２０２工艺污泥产物组成进行了ＸＰＳ分　析，结果如图７（ａ）所示。由图７（ａ）可知，沉淀　产物主要由Ｃｕ和Ｏ两种元素构成，其中Ｃｕ元素　结合能在９３３．６和９５３．７　ｅＶ处存在显著特征峰，且　在９６２．２和９４１．４　ｅＶ处具有明显的震激伴峰［图７　（ｂ）］，表明Ｃｕ元素主要以＋２价形式存在　。　。Ｏ　元素结合能在５２９．９ｅＶ处存在最高吸收峰，对应于　ＣｕＯ中Ｏ的结合能　，３引，因此推断沉淀污泥的主要　成分为ＣｕＯ。　此外，污泥产物的ＸＲＤ谱图如图８所示。通　过ＭＤＩ．Ｊａｄｅ软件分析，其与ＣｕＯ晶型理论衍射峰　基本相同［２　ｌ，这与ＸＰＳ结果相一致。综合上述结论，　推测在Ｃｕ．ＥＤＴＡ降解过程中，络合态Ｃｕ逐渐转换　为游离态Ｃｕ，并形成氢氧化物沉淀，但受微波致热　效应影响，Ｃｕ（ＯＨ）２在高温条件下分解为ＣｕＯ　与Ｈ２０［　训。　２．７不同处理工艺性能比较　在Ｃｕ．ＥＤＴＡ浓度为１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ～，初始ｐＨ　为３，Ｈ２Ｏ２投加量为４１　ｍｍｏｌ・Ｌ～，反应时间为１Ｏ　ｍｉｎ同等条件下，从氧化效能、出水电导率、产泥　量及Ｈ２Ｏ２残余浓度角度，综合对比ＭＷ－Ｈ２０２工艺　ｂｉｎｄｉｎｇ　ｅｎｅｒｇｙ／ｅＶ　（ａ）　重　耋　ｂｉｎｄｉｎｇ　ｅｎｅｒｇｙ／ｅＶ　（ｂ）　图７污泥产物的ＸＰＳ全谱及Ｃｕ元素窄谱　Ｆｉｇ．７　Ｆｕｌｌ　ＸＰＳ　ｓｐｅｃｔｒｕｍ　ｏｆ　ｓｌｕｄｇｅ　ｆｏｒｍｅｄ　ｉｎ　ＭＷ－Ｈ２０２　ｐｒｏｃｅｓｓ　ａｎｄ　ｎａｒｒｏｗ　ｓｐｅｃｔｒｕｍ　ｏｆ　Ｃｕ　ｅｌｅｍｅｎｔ（Ｃｕ—ＥＤＴＡ　ｉｎｉｔｉａｌ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ　１．５７　ｍｍｏｌ　Ｌ一，ｉｎｉｔｉａｌ　ｐＨ＝３，Ｈ２ｏ２　ｄｏｓａｇｅ＝　４１　ｍｍｏｌ‘Ｌ－　，ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ＝２１０　Ｗ）　鲁　昌　尝　２０／（。）　图８污泥产物的ＸＲＤ谱图　Ｆｉｇ．８　ＸＲＤ　ｐａｔｔｅｒｎ　ｏｆ　ｓｌｕｄｇｅ　ｆｏｒｍｅｄ　ｎｉ　ＭＷ－Ｈ２０２　ｐｒｏｃｅｓｓ　（Ｃｕ－ＥＤＴＡ　ｉｎｉｔｉａｌ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ＝１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ～。ｉｎｉｔｉａｌ　ｐＨ＝３，　Ｈ２Ｏ２　ｄｏｓａｇｅ＝４１　ｍｍｏｌ・Ｌ～，ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ＝２１０　ｗ）　（微波功率为２１０　ｗ）与Ｆｅｎｔｏｎ工艺（Ｆｅ　浓度为　２６．８　ｍｍｏ１．Ｌ一　）处理性能。　如表１所示，相比Ｆｅｎｔｏｎ工艺，ＭＷ－Ｈ２Ｏ２工　艺表现出对过氧化氢的高效利用，具有优越的氧化　效能，反应ｉ０　ｒｎｉｎ后Ｃｕ和ＴＯＣ去除率高达９７．０％　・４７６２・　化工学报　第６８卷　表１不同工艺处理Ｃｕ－ＥＤＴＡ的氧化效能、出水电导率、产泥量及过氧化氢残余浓度比较　Ｔａｂｌｅ　１　Ｃｏｍｐａｒｉｓｏｎ　ｏｆ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ　ｅｆｉｃｉｅｎｃｙ，ｅｆｆｌｕｅｎｔ　ｆｃｏｎｄｕｃｔｉｖｉｔｙ，ｓｌｕｄｇｅ　ｙｉｅｌｄ　ａｎｄ　ｒｅｓｉｄｕａｌ　Ｈ２０２　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ　ｉｎ　ｄｉｆｆｅｒｅｎｔ　ｓｙｓｔｅｍｓ　ｆｏｒ　Ｃｕ－ＥＤＴＡ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｏｎｔｉｍｅ＝１０ｍｉｎ，Ｆｅ２　ｄｏｓａｇｅ＝０５ｍｍｏｌ・Ｎｏｔｅ：Ｃｕ．ＥＤＴＡｉｎｉｔｉａｌ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ＝１．５７ｍｍｏ１．Ｌ－　，ｉｎｉｔｉａｌｐＨ＝３，Ｈ２０２ｄｏｓａｇｅ＝４１ｍｍｏｌ－Ｌ－‘ｒｅａｃｔｉＬ－　ｆｏｒ　．Ｆｅｎｔｏｎ　ｐｒｏｃｅｓｓ，ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｐｏｗｅｒ＝２１０　Ｗ　ｆｏｒ　ＭＷ－Ｈ２０２　ｐｒｏｃｅｓｓ．　和６０．７％。由于未额外投加Ｆｅ。　催化剂，其出水电　导率及产泥量均较低，分别为１．８　ｍＳ・ｃｍ－　和０．１５　ｇ．Ｌ一，这无疑有利于生化反应及污泥的后续处理。　因此，针对含Ｃｕ—ＥＤＴＡ废水的氧化处理，ＭＷ－Ｈ２０２　工艺较传统Ｆｅｎｔｏｎ更具优势。　３　结　论　（１）采用ＭＷ．Ｈ，Ｏ，工艺处理１．５７　ｍｍｏｌ・Ｌ　Ｃｕ．ＥＤＴＡ，当初始ｐＨ为３，Ｈ２Ｏ２投加量为４１　ｍｍｏｌ・Ｌ～，微波功率为２１０　Ｗ时，反应时间１０　ｍｉｎ　后Ｃｕ和ＴＯＣ去除率分别达到９７．１％和６０．６％，出　水电导率低至１．８　ｍＳ・ｃｍ－　，产泥量仅为０．１５　ｇ・Ｌ～。　（２）共存物质如ｃ１一和ＮＯ；对Ｃｕ和ＴＯＣ最终　去除率无明显影响；Ｈ２ＰＯ４和酒石酸对Ｃｕ．ＥＤＴＡ　氧化降解过程具有抑制作用，但反应过程生成的　Ｃｕ３（ＰＯ４）２沉淀则有利于增强体系的氧化效能。　（３）微波作用４　ｍｉｎ后，Ｃｕ．ＥＤＴＡ基本完全氧　化，并生成多种中间降解产物，其在４～６　ａｒｉｎ内急　剧降解，最终形成小分子羧酸类物质、ＮＨ　．Ｎ和无　机碳；反应过程沉淀产物主要以ＣｕＯ形式存在。　（４）与传统Ｆｅｎｔｏｎ工艺相比，ＭＷ－ＨｚＯ，工艺　在氧化效能、出水电导率及产泥量等方面表现出显　著优势，可克服其存在的诸多缺陷。　Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅｓ　［１］　ＳＨＩＨ　Ｙ　Ｊ，Ｌ１Ｎ　Ｃ只ＨＵＡＮＧ　Ｙ　Ｈ　Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｆｅｒｅｄ—Ｆｅｎｔｏｎ　ａｎｄ　ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｉｏｎ　ｐｒｏｃｅｓｓ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　ｒｔｅａｔｍｅｎｔ　ｏｆ　ｅｌｅｃｔｒｏｌｅｓｓ　ｎｉｃｋｅｌ　ｐｌａｔｉｎｇ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ［Ｊ］．Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｐｕｒｉｉｆｃａｔｉｏｎ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２０１３，　１０４：ｌＯＯ－１０５．　［２］　ＰＲＩＹＡ　Ｐ　Ｇ　ＢＡＳＨＡ　Ｃ　Ａ，ＲＡＭＡＭＵＲＴＨＩ　Ｖ　ｅｔ　ａ１．Ｒｅｃｏｖｅｒｙ　ａｎｄ　ｒｅｕｓｅ　ｏｆＮｉ（ＩＩ）ｆｒｏｍ　ｒｉｎｓｅｗａｔｅｒ　ｏｆ　ｅｌｅｃｔｒｏｐｌａｔｉｎｇ　ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ［Ｊ］．Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆＨａｚａｒｄｏｕｓ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，２００９，１６３：８９９－９０９．　【３］　ＬＥＥ　ＣＧ　ＬＥＥ　Ｓ，ＰＡＲＫ　ＪＡ，ｅｔ　ａ１．Ｒｅｍｏｖａｌ　ｏｆｃｏｐｐｅｒ。ｎｉｃｋｅｌａｎｄ　ｃｈｒｏｍｉｕｍ　ｍｉｘｔｕｒｅｓ　ｆｒｏｍ　ｍｅｔａｌ　ｐｌａｔｉｎｇ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｂｙ　ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ　ｗｉｈｔ　ｍｏｄｉｉｆｅｄ　ｃａｒｂｏｎ　ｆｏａｍ［Ｊ］．Ｃｈｅｍｏｓｐｈｅｒｅ，２０１７，１６６：２０３—２１１．　［４］　ＨＯＳＳＥＩＮＩ　Ｓ　Ｓ，ＢＲＩＮＧＡＳ　Ｅ，ＴＡＮ　Ｎ　Ｒ，ｅｔ　ａ１．Ｒｅｃｅｎｔ　ｐｒｏｇｒｅｓｓ　ｉｎ　ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ　ｏｆ　ｈｉｇｈ　ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ　ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ　ｍｅｍｂｒａｎｅｓ　ａｎｄ　，ｍａｔｅｒｉｌａｓｆｏｒｍｅｔａｌｐｌａｔｉｎｇｗａｓｔｅｗａｔｅｒｔｒｅａｔｍｅｎｔ：ａ　ｒｅｖｉｅｗ［Ｊ］．Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆＷａｔｅｒ　Ｐｒｏｃｅｓｓ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，２０１６，９：７８－１１０．　［５］ＡＬ－ＳＨＡＮＧＮＡＧ　Ｍ，ＡＬ－ＱＯＤＡＨ　ｚ，ＢＡＮＩ－ＭＥＬＨＥＭ　Ｋ，ｅｔ　ａ１．　Ｈｅａｖｙ　ｍｅｔａｌ　ｉｏｎｓ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｆｒｏｍ　ｍｅｔａｌ　ｐｌａｔｉｎｇ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｕｓｉｎｇ　ｅｌｅｃｔｒｏｃｏａｇｕｌａｔｉｏｎ：　ｋｉｎｅｔｉｃ　ｓｔｕｄｙ　ａｎｄ　ｐｒｏｃｅｓｓ　ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ［Ｊ］．　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　Ｊｏｕｒｎａｌ，２０１５，２６０：７４９－７５６．　［６］ＭＯＵＳＳＡＶＩ　Ｇ　ＪＩＡＮＮＩ　Ｅ　ＳＨＥＫＯＯＨＩＹＡＮ　Ｓ．Ａｄｖａｎｃｅｄ　ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｃｒ（ＶＩ、ｉｎ　ｒｅａｌ　ｃｈｒｏｍｅ－ｐｌａｔｉｎｇ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｕｓｉｎｇ　ａⅥ『Ｖ　ｐｈｏｔｏｒｅａｃｔｏｒ：ｂａｔｃｈ　ａｎｄ　ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ—ｌｆｏｗ　ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓ［Ｊ］．Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ　ｎａｄＰｕｒｉｆｉｃａｔｉｏｎＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２０１５，１５１：２１８－２２４．　【７】ＨＵＡＮＧ　Ｘ　Ｅ　ＸＵ　ＳＨＡＮ　Ｃ，ｅｔ　ａ１．Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｃｕ（ＩＩ）一ＥＤＴＡ　ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｎａｄ　Ｃｕ（ＩＩ、ｒｅｍｏｖａｌ　ｒｆｏｍ　ａｃｉｄｉｃ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｂｙ　ｏｚｏｎａｔｉｏｎ：　ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ，ｐｒｏｄｕｃｔｓ　ａｎｄ　ｐａｔｈｗａｙｓ［Ｊ］．Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　Ｊｏｕｒｎａｌ，２０１６，２９９：２３－２９．　［８］ＬＩ　ＷＡＮＧ　Ｈ　Ｊ，ＤＯＮＧ　Ｗ　ｅｔ　ａ１．Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｄｕｒｉｎｇ　Ｆｅ（ＩＩ）　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｐｒｅｓｅｎｃｅ　ｏｆ　Ｃｕ（ＩＩ）：ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ　ａｎｄ　ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ　ｏｆｒ　ｅｌｅｃｔｒｏ－ｐｌａｔｉｎｇ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ［Ｊ］．　Ｓｅｐａｒｔａｉｏｎ　ａｎｄ　Ｐｕｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２０１４，１３２：３８８—３９５．　【９］　ＫＡＢＤＡＳＬＩ　Ｉ，ＡＲＳＬＡＮ　Ｌ　ＡＲＳＬＡＮ－ＡＬＡＴＯＮ　Ｉ，ｅｔ　ａ１．Ｏｒｇａｎｉｃ　ｍａｔｔｅｒ　ａｎｄ　ｈｅａｖｙ　ｍｅｔａｌ　ｒｅｍｏｖａｌｓ　ｆｒｏｍ　ｃｏｍｐｌｅｘｅｄ　ｍｅｔａｌ　ｐｌａｔｉｎｇ　ｅｆｌｆｕｅｎｔｂｙｔｈｅ　ｃｏｍｂｉｎｅｄ　ｅｌｅｃｔｒｏｅｏａｇｕｌａｔｉｏｎ／Ｆｅｍｏｎｐｒｏｃ￣ｓｓＤ］．Ｗａｔｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２０１０．６１：２６１７－２６２４．　［１０】ＢＡＢＵＰＯＮＮＵＳＡＭＩ　Ａ，ＭＵＴＨＵＫＵＭＡＲ　Ｋ．Ａ　ｒｅｖｉｅｗ　ｏｎ　Ｆｅｎｔｏｎ　ｎａｄ　ｉｍｐｒｏｖｅｍｅｎｔｓ　ｔｏ　ｈｔｅ　Ｆｅｎｔｏｎ　ｐｒｏｃｅｓｓ　ｆｏｒ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｒｔｅａｔｍｅｎｔ［Ｊ］．　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆＥｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，２０１４，２：５５７－５７２．　［１１］ＰＬＩＥＧＯ　Ｇ　ＺＡＺＯ　Ｊ　Ａ，ＧＡＲＣＩＡ－ＭＵＺｑＯＺ　Ｐ，ｅｔ　ａ１．Ｔｒｅｎｄｓ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｉｎｔｅｎｓｉｉｆｃａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｈｔｅ　Ｆｅｎｔｏｎ　ｐｒｏｃｅｓｓ　ｆｏｒ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ：ａｎ　ｏｖｅｒｖｉｅｗ［Ｊ］．Ｃｒｉｉｔｃａｌ　Ｒｅｖｉｅｗｓ　ｉｎ　Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２０１５，４５：２６１１－２６９２．　【１２］ＪＵ　Ｙ　Ｍ，ＹＡＮＧ　Ｓ　Ｇ　ＤＩＮＧ　Ｙ　Ｃ，ｅｔ　ａｌ　Ｈ２０ｚ－ｂａｓｅｄ　ｐｒｏｃｅｓｓ　ｆｏｒ　ｔｒｅａｔｎｉｇ　ａｑｕｅｏｕｓ　ｍａｌａｃｈｉｔｅ　ｇｒｅｅｎ　ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ：　ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅｓ　ａｎｄ　ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｍｅｃｈａｎｉｓｍ［Ｊ］．Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｈａｚａｒｄｏｕｓ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，２００９，１７１（１／２／３）：１２３－１３２．　［１３］　ＰＲＡＳＡＮＮＡＫＩ＂　ＡＲ　Ｂ　Ｒ，ＲＥＧＵＰＡＴＨＩ　Ｉ，ＭＵＲＵＧＥＳＡＮ　Ａｎ　ｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎ　ｓｔｕｄｙ　ｏｎ　ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｉｒｒａｄｉａｔｅｄ　ｄｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ　ｏｆ　ｐｈｅｎｏｌ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｐｒｅｓｅｎｃｅ　ｏｆ　Ｈ２Ｏｚ［Ｊ］．Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ＆　Ｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２００９，８４（１）：８３－９１．　［１４］　ＲＡＶＥＲＡ　Ｍ，ＢＵＩＣＯ　Ａ，ＧＯＳＥＴＴＩ　ｅｔ　ａ１．Ｏｘｉｄａｔｉｖｅ　ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｏｆ　１，５－ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅｄｉｓｕｌｏｆｎｉｃ　ａｃｉｄ　ｉｎ　ａｑｕｅｏｕｓ　ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ　ｂｙ　ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｉｒｒａｄｉａｔｉｏｎ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｐｒｅｓｅｎｃｅ　ｏｆ　Ｈ２０２［Ｊ］．Ｃｈｅｍｏｓｐｈｅｒｅ，２００９，７４（１０）：　１３０９．１３１４．　［１５】　ＢＩ　Ｘ　ＹＡＮＧ　Ｈ　ＳＵＮ　Ｐ　Ｓ．Ｍｉｃｒｏｗａｖｅ－ｉｎｄｕｃｅｄ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ　ｐｒｏｇｒｅｓｓ　ｏｆｒ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｏｆ　ｉｍｉｄａｃｌｏｐｒｉｄ　ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ［Ｊ］．Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｍｅｃｈａｎｉｃｓ＆Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，２０１２。２２９／２３０／２３１：２４８９．２４９２．　［１６］　马莹莹．铜类芬顿反应对电镀废水中有机物降解的研究［Ｄ］．南昌：　第１２期　ｗｗｗ．ｈｇｘｂ．ｃｏｒｎ．ｃｎ　・４７６３・　南昌航空大学，２０１６：７２．　ＭＡ　Ｙ　Ｙ　Ｓｔｕｄｙ　ｏｎ　ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｏｒｇａｎｉｃ　ｐｏｌｌｕｔａｎｔｓ　ｉｎ　ｅｌｅｃｔｒｏｐｌａｔｉｎｇ　ｗａｓｔｅ　ｗａｔｅｒ　ｂｙ　Ｆｅｎｔｏｎ—ｌｉｋｅ　ｒｅａｃｔｉｏｎ　ｃａｔａｌｙｚｅｄ　ｂｙ　ｃｏｐｐｅｒ　ｉｏｎｓ［Ｄ］．　Ｎａｎｃｈａｎｇ：Ｎａｎｃｈａｎｇ　Ｈａｎｇｋｏｎｇ　Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，２０１６：７２．　［１７】　ＷＡＮＧ　Ｎ　Ｎ，ＺＨＥＮＧ　Ｌ　ＪＩＡＮＧ　Ｊ，ｅｔ　ａ１．Ｃｕ（ＩＩ）一Ｆｅ（ＩＩ）・Ｈ２０２　ｏｘｉｄａｔｉｖｅ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｏｆ　３．ｎｉｔｒｏａｎｉｌｉｎｅ　ｉｎ　ｗａｔｅｒ　ｕｎｄｅｒ　ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｉｒｒａｄｉａｔｉｏｎ［Ｊ］．Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　Ｊｏｕｒｎａｌ，２０１５，２６０：３８６—３９２．　［１８】　ＺＨＯＮＧ　Ｘ，ＢＡＲＢＩＥＲ　Ｊ，ＤＵＰＲＥＺ　Ｄ，ｅｔ　ａ１．Ｍｏｄｕｌａｔｉｎｇ　ｔｈｅ　ｃｏｐｐｅｒ　ｏｘｉｄｅ　ｍｏｒｐｈｏｌｏｇｙ　ａｎｄ　ａｃｃｅｓｓｉｂｉｌｉｔｙ　ｂｙ　ｕｓｉｎｇ　ｍｉｃｒｏ一／ｍｅｓｏｐｏｒｏｕｓ　ＳＢＡ・１５　ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ　ａｓ　ｈｏｓｔ　ｓｕｐｐｏ￣：ｅｆｆｅｃｔ　ｏｎ　ｔｈｅ　ａｃｔｉｖｉｔｙ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　ＣＷＰＯ　ｏｆ　ｐｈｅｎｏｌ　ｒｅａｃｔｉｏｎ［Ｊ］．Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｃａｔａｌｙｓｉｓ　Ｂ：Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａ１．　２０１２，１２１：１２３—１３４．　【１９】　ＮＩＤＨＥＥＳＨ　Ｐ　Ｖ　ＧＡＮＤＨＩＮＡＴＨＩ　Ｒ．Ｔｒｅｎｄｓ　ｉｎ　ｅｌｅｃｔｒｏ—Ｆｅｎｔｏｎ　ｐｒｏｃｅｓｓ　ｆｏｒ　ｗａｔｅｒ　ａｎｄ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ：ａｌｌ　ｏｖｅｒｖｉｅｗ［Ｊ］．　Ｄｅｓａｌｉｎａｔｉｏｎ．２０１２．２９９：１－１５．　［２０】　Ｍ　Ｓ　Ｍ，ＶＯＧＥＬＰＯＨＬ　Ａ．Ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｏｆｏｒｇａｎｉｃ　ｐｏｌｌｕｔａｎｔｓ　ｂｙ　ｈｔｅ　ｐｈｏｔｏ—Ｆｅｎｔｏｎ－ｐｒｏｅｅｓｓ［Ｊ］．Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，１９９８，　２１（２）：１８７—１９１．　［２１】ＸＵＺ，ＳＨＡＮＣ，ＸＩＥＢＨ，ｅｔａ１．Ｄｅｃｏｍｐｌｅｘａｔｉｏｎ　ｏｆＣｕ（ｉｉ）一ＥＤＴＡｂｙ　ＵＶ／ｐｅｒｓｕｌｆａｔｅ　ａｎｄ　ＵＶ／Ｈ２０２：ｅｆｉｆｃｉｅｎｃｙ　ａｎｄ　ｍｅｃｈａｎｉｓｍ［Ｊ］．Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｃａｔａｌｙｓｉｓ　Ｂ：Ｅｎｖｒｉｏｎｍｅｎｔａｌ，２０１７，２００：４３９—４４７．　［２２】ＳＵＮ　Ｊ　Ｈ，ＳＵＮ　Ｓ　Ｐ，ＦＡＮ　Ｍ　Ｈ，ｅｔ　ａ１．Ａ　ｋｉｎｅｔｉｃ　ｓｕｔｄｙ　ｏｎ　ｔｈｅ　ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｏｆｐ—ｎｉｒｔｏａｎｉｌｉｎｅ　ｂｙ　Ｆｅｎｔｏｎ　ｏｘｉａｄｔｉｏｎ　ｐｒｏｃｅｓｓ［Ｊ］．Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆＨａｚａｒｄｏｕｓ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，２００７，１４８（１／２）：１７２－１７７．　［２３］ＫＡＢＤＡＳＬＩ　Ｉ，ＡＲＳＬＡＮ　ＯＬＭＥＺ—ＨＡＮＣＩ　Ｌ　ｅｔ　ａ１．Ｃｏｍｐｌｅｘｉｎｇ　ａｇｅｎｔ　ａｎｄ　ｈｅａｖｙ　ｍｅｔａｌ　ｒｅｍｏｖａｌｓ　ｆｒｏｍ　ｍｅｔａｌ　ｐｌａｔｉｎｇ　ｅｆｌｆｕｅｎｔ　ｂｙ　ｅｌｅｃｔｒｏｃｏａｇｕｌａｔｉｏｎ　ｗｉｔｈ　ｓｔａｉｎｌｅｓｓ　ｓｔｅｅｌ　ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｓ［Ｊ］．Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｈａｚａｒｄｏｕｓ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，２００９，１６５（１／２／３）：８３８・８４５．　［２４】ＬＩＵ　Ｓ　ＨＵＡＮＧ　Ｊ’ＹＥ　ｅｔ　ａ１．Ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｅｎｈａｎｃｅｄ　Ｆｅｎｔｏｎ　ｐｒｏｃｅｓｓ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｏｆ　ｍｅｔｈｙｌｅｎｅ　ｂｌｕｅ　ｆｒｏｍ　ａｑｕｅｏｕｓ　ｓｏｌｕｔｉｏｎ［Ｊ］．　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　Ｊｏｕｒｎａｌ，２０１３，２１５／２１６：５８６－５９０．　［２５］ＺＡＬＡＴ　Ｏ　Ａ，ＥＬＳＡＹＥＤ　Ｍ　Ａ．Ａ　ｓｔｕｄｙ　ｏｎ　ｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｏｆ　ｐＹｎｄｉｎｅ　ｆｒｏｍ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ［Ｊ］．Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，２０１３，１：１３７—１４３．　［２６】ＳＴＡＳＩＮＡＫＩＳ　Ａ　Ｓ．Ｕｓｅ　ｏｆ　ｓｅｌｅｃｔｅｄ　ａｄｖａｎｃｅｄ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ　ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ　（ＡＯＰｓ）ｆｏｒ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ－ａ　ｍｉｎｉ　ｒｅｖｉｅｗ［Ｊ］．Ｇｌｏｂａｌ　ＮＥＳＴ　Ｊｏｕｒｎａｌ，２００８，１Ｏ（３）：３７６－３８５．　［２７］　马莹莹，吴跃辉，李锦卫，等．镀铜废水中Ｃｕ—Ｈ２０２体系氧化降解　硝基苯［Ｊ］＿环境工程学报，２０１６，１Ｏ（９）：４７７５－４７８２．　ＭＡ　Ｙ　ＷＵ　Ｙ　Ｈ，ＬＩ　Ｊ　Ｗ，　ａ１．Ｏｘｉｄａｔｉｖｅ　ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｎｉｒｔｏｂｅｎｚｅｎｅ　ｃａｔａｌｙｚｅｄ　ｂｙ　Ｃｕｅ＋＿Ｈ２０２　ｓｙｓｔｅｍ　ｉｎ　ｃｏｐｐｅｒ　ｒｉｎｓｅ　ｗａｔｅｒ［Ｊ］．　Ｃｈｉｎｅｓｅ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，２０１６，１ｏ（９）：　４７７５．４７８２．　［２８】ＷＡＮＧ　Ｎ　Ｎ，ＷＡＮＧ　ｐ．Ｓｔｕｄｙ　ｎａｄ　ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ　ｓｔａｕｔｓ　ｏｆｍｉｃｒｏｗａｖｅ　ｉｎ　ｏｒｇａｎｉｃ　ｗａｓｔｅｗａｔｅｒ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ－ａ　ｒｅｖｉｅｗ［Ｊ］．Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　Ｊｏｕｒｎａｌ，２０１６，２８３：１９３—２１４．　［２９】孟令芝，龚淑玲，何永炳，等．有机波谱分析　川．４版．武汉：武　汉大学出版社．２０１６：３３０．３３８．　ＭＥＮＧ　Ｌ　Ｚ，ＧＯＮＧ　Ｓ　Ｌ，ＨＥＮＧ　Ｙ　Ｂ，ｅｔ　ａ１．Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｐｅｃｔｒｕｍ　Ａｎａｌｙｓｉｓ［Ｍ］．４ｔｈ　ｅｄ．Ｗｕｈａｎ：Ｗｕｈａｎ　Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ　Ｐｒｅｓｓ，２０１６：３３５—３３８．　［３０］ＺＨＡＯ　Ｘ，ＧＵＯ　Ｌ，ＺＨＡＮＧ　Ｂ，ｅｔ　ａ１．Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｃａｔａｌｙｔｉｃ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｃｕ（ＩＩ）一ＥＤＴＡ　ａｔ　ｔｈｅ　ＴｉＯ２　ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ　ａｎｄ　ｓｉｍｕｌｔａｎｅｏｕｓ　ｒｅｃｏｖｅｒｙ　ｏｆ　Ｃｕ（ＩＩ）ｂｙ　ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ［Ｊ］．Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ　Ｓｃｉｎｅｃｅ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，　２０１３，４７（９）：４４８０—４４８８．　［３１］　ＭＯＵＬＤＥＲ　Ｊ　ＳＴＩＣ　正Ｗ　Ｆ’ＳＯＢＯＬ　Ｐ　Ｅ．Ｈａｎｄｂｏｏｋ　ｏｆ　Ｘ—Ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒｓ［Ｍ］．　Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ：Ｐｅｒｋｉｎ—Ｅｌｅｍｅｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ　Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ　Ｄｉｖｉｓｉｏｎ，１９９２：３２・３５　【３２】ＶＡＳＱＵＥＺ　Ｒ　Ｐ　ＣｕＯ　ｂｙ　ＸＰＳ［Ｊ］．Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　Ｓｐｅｃ￣ａ，１９９８，５（４）：　２６２．２６６．　［３３】ＬＡＮ　Ｓ，ＸＩＯＮＧ　ＴＩＡＮ　Ｓ，ｅｔａ１．Ｅｎｈａｎｃｅｄ　ｓｅｌｆ－ｃａｔａｌｙｔｉｃｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ　ｏｆＣｕ—ＥＤＴＡ　ｉｎ　ｈｔｅ　ｐｒｅｓｅｎｃｅ　ｏｆＨ２０２／ＵＶ：ｅｖｉｄｅｎｃｅ　ｎａｄ　ｉｍｐｏｒｔａｎｃｅ　ｏｆ　Ｃｕ－ｐｅｒｏｘｉｄｅ　ａｓ　ａ　ｐｈｏｔｏ－ａｃｔｉｖｅ　ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅ［Ｊ】．Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｃａｔａｌｙｓｉｓ　Ｂ：　Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ，２０１６，１８３：３７１－３７６．　【３４】ＡＫＨＡＶＡＮ　Ｏ，ＡＺＩＭＩＲＡＤ　ＳＡＦＡ　Ｓ，ｅｔ　ａ１．ＣｕＯ／Ｃｕ￣（ＯＨ）２　ｈｉｅｒａｒｃｈｉｃａｌ　ｎａｎｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ　ａｓ　ｂａｃｔｅｒｉｃｉａｄｌ　ｐｈｏｔｏｃａｔａｌｙｓｔｓ［Ｊ］．Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１１，２１（２６）：９６３４．