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一种掺杂区熔单晶的制备工艺[发明专利]

2024-07-15 来源:好走旅游网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种掺杂区熔单晶的制备工艺专利类型:发明专利发明人:陈海滨

申请号:CN201110405712.8申请日:20111208公开号:CN103160912A公开日:20130619

摘要:一种掺杂区熔单晶的制备工艺,它包括以下步骤:(1)先将多晶硅棒磨锥,腐蚀,清洗,干燥;(2)然后将其放入化学气相沉积炉里,抽空,通纯氩气,预热,待达到所需温度时再通携带磷烷或硼烷的氩气,在气相沉积炉子里通过磷烷或硼烷气体热分解在多晶硅棒上淀积一层P或B原子,这样保持几个小时后,停止通气并停止加热;(3)让多晶随炉冷却,然后取出挂装在区熔炉里,对中,抽真空,充氩气,预热,开始拉制单晶直至收尾。本发明的优点是:本工艺既可获得N型单晶,也可获得P型单晶,单晶的电阻率大小和均匀性都符合要求,且成本较低,节省时间,同时单晶寿命较长。本工艺所拉制2-4寸掺杂单晶的电阻率均匀性在20%以内。

申请人:有研半导体材料股份有限公司,国泰半导体材料有限公司

地址:100088 北京市西城区新街口外大街2号

国籍:CN

代理机构:北京北新智诚知识产权代理有限公司

代理人:郭佩兰

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