专利名称：一种用于ITO导电膜的保护膜专利类型：实用新型专利发明人：刘楷楷,董红星申请号：CN202021581174.9申请日：20200803公开号：CN212864661U公开日：20210402
摘要：本实用新型提供了一种用于ITO导电膜的保护膜，涉及ITO导电膜领域，包括从下往上依次贴合的基材、抗静电层和亚克力胶层；所述抗静电层采用将抗静电剂涂布在所述基材上固化后形成，所述抗静电层的厚度为0.1‑2μm；本实用新型提供的一种用于ITO导电膜的保护膜，在贴合过程中，撕除离型膜时静电很快消散，环境中异物灰尘不会吸附到胶层表面，降低环境中颗粒物的影响，提高了产品良率；由于消除了静电影响，可实现在线贴合，减少覆膜机设备的投入，减少了一道制程的损耗，提高了产出率，节约了制造成本；并且抗静电层的厚度采用0.1‑2μm，在节省成本的前提下，能够起到较好的消除静电效果；克服了现有ITO用保护膜良率低以及无法在线贴合的缺陷。
申请人：宁波惠之星新材料科技有限公司
地址：315000 浙江省宁波市江北区慈城镇庆丰路988号4幢
国籍：CN
代理机构：余姚德盛专利代理事务所(普通合伙)
代理人：戚秋鹏
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容