专利名称：一种制备石墨烯薄膜的装置、方法及所得石墨烯薄
膜
专利类型：发明专利发明人：彭鹏,金虎
申请号：CN201110442123.7申请日：20111226公开号：CN102492934A公开日：20120613
摘要：本发明涉及一种通过化学气相沉积法(CVD法)连续制备石墨烯薄膜的装置，其主要由进样室、炉管和出样室组成，生长室高温生长区将一直保持高温生长温度，不用等待升降温的过程，并解决了样品在高温区的传动问题，可以进行不间断的生长，从而大幅度提高用化学气相沉积(CVD)方法制备石墨烯薄膜的产量。
申请人：彭鹏
地址：湖南省邵阳市宝庆中路437号16栋3单元201
国籍：CN
代理机构：北京北翔知识产权代理有限公司
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