专利名称：衬底和使用该衬底的方法专利类型：发明专利
发明人：安东尼内斯·马丁内斯·科尼利斯·皮卓斯·德琼,伊哥·
皮卓斯·玛丽安·布克姆斯,理查得·约瑟夫·布鲁尔斯,汉斯·詹森,马丁内斯·亨得利卡斯·安东尼内斯·利恩德尔斯,皮特·弗朗西斯科斯·万腾,马克斯·西奥多·威廉姆斯·范德黑杰登,雅克·考尔·约翰·范德多恩克,弗雷德里克·约翰内斯·范德波卡德,简·克劳埃伍尔德,桑德拉·范德格拉夫,卡门·路莉娅·祖儿德西
申请号：CN200810136032.9申请日：20080708公开号：CN101446770A公开日：20090603
摘要：本发明公开了一种从用于光刻中的设备去除污染物的方法以及一种适用于从用于光刻中的设备去除污染物的衬底，所述方法包括：将衬底装载到所述设备中，所述衬底包括刚性支撑层以及设置在所述刚性支撑层上的可变形层；将所述衬底的所述可变形层与所述设备的表面形成接触，污染物将从所述设备的表面上去除；引起在所述可变形层和所述设备的将被去除的污染物所在的所述表面之间的相对运动以将污染物从所述表面移除；以及去除被移除的污染物。本发明的其它方面也被描述和阐述。
申请人：ASML荷兰有限公司
地址：荷兰维德霍温
国籍：NL
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：王波波
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