气体精制方法及装置

（12）发明专利说明书

（21）申请号 CN03136649.X （22）申请日 2003.05.22

（71）申请人 日本酸素株式会社;大见忠弘

地址 日本东京都

（10）申请公布号 CN1297473C （43）申请公布日 2007.01.31

（72）发明人 矢崎隆一;川井雅人;君岛哲也;松田州央;大见忠弘 （74）专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司

代理人 王学强

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

气体精制方法及装置

（57）摘要

一种气体精制方法及装置，能够有效

率的除去使用氪气或氙气的各种过程的排放气体中所含有的不纯物，而且可以实现在半导体制造装置附近设置能够将排气中的稀有气体连续的分离、回收再利用的小型系统。此方法是为从以稀有气体与氮气作为主成分，且含有以氢气、氮与氢所组成的反应生成物、水蒸气作为微量不纯物的气体混和物中除去上述微量不纯物的气体精制方法，包括能够除去由氮与氢所形成的反应生成物与水蒸气的吸附过程、使氢气在氧气存在下经

由氢气氧化触媒反应而能够转换成水蒸气的氢气氧化过程以及除去在氢气氧化过程中所生成的水蒸气的干燥过程，而且，在含有作为微量不纯物的氮氧化物的情况下，在吸附过程的前段，进行使氮氧化物在还原物质存在下经由脱氮触媒反应而能够转换成氮气与水蒸气的脱氮过程。 法律状态

法律状态公告日2003-12-03 2003-12-03 2005-03-02 2005-03-02 2007-01-31 2007-01-31 2007-06-06 2007-06-06 2007-06-06 2007-06-06 2016-07-06 2016-07-06

法律状态信息

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权利要求说明书

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说明书

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