晶龙电子级石英坩埚替代进口

化工中间体　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅ　２００９年第１２期　部分的三氯氢硅就可以被冷却下来，使尾气中三　氯氢硅的体积分数降至１％左右ｌ　２】，这种方法不仅　提高产量，而且降低了尾气处理的难度。此外也有　温度对实验结果的影响，对合成尾气处理作了简　单的介绍。在备选的条件中，选择复合ｓｉ做硅源，　医用石蜡作浆态床介质，ＣｕＣ１２－ＳｂＣＩ５作复合催化　剂，２６０～２７５　ｏＣ作为反应温度，该实验装置可以得　报道用活性炭吸附法处理尾气，主要原理是：活性　炭吸附尾气中的氯硅烷，当达到饱和后，由蒸汽加　热，脱出吸附的氯硅烷。　本实验主要用流动自来水吸收后加碱处理，　达标后排放。主要原理是：尾气中的ＳｉＣｈ、ＳｉＨＣ１　到较高的ＳｉＨＣ１，转化率和产率，并且整个试验装　置能长期稳定运行。对于尾气的处理，可以通过提　高尾气压力，降低冷凝温度来实现尾气中ＳｉＨＣ１　低含量，进而增加目标产品产量，提高装置的经济　效益。大规模工业化生产ＨＣ１和Ｈ　也可以采用相　与水生成ＳｉＯ　和溶于水的ＨＣ１而被吸收，尾气中　ＨＣ１气体可以被不断流动自来水完全吸收，出来的　应的工艺进行回收再利用，剩下的尾气经过吸收　少量氢气被及时抽出实验室排放到空气中。该操　作主要是要调节自来水流量，确保尾气被完全吸　收，不留污染物。大规模工业生产可以提高尾气压　力来降低三氯氢硅在尾气中的含量，以致提高产　量，减低后处理难度，减少对环境的污染，ＨＣ１和　或吸附处理可以做到对环境零污染。　参考文献　【１】傅积责，化工百科全书（第６卷）有机硅化合物［ＭＩ．北京：化学工业　出版社，１９９４．　Ｈ：也可以采用相应的工艺进行回收再利用。　３结束语　［２】王晓辉，何佳华三氯氢硅合成炉尾气的治理［Ｊ】．中国氯碱，２００７．　收稿日期：２００９．０９．２５　本文主要讨论了硅源，浆态床介质，催化剂，　Ｒｅｓｅａｒｃｈ　ｏｎ　ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　ｏｆ　ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｓｉｌａｎｅ　ｉｎ　ｓｌｕｒｒｙ　ｒｅａｃｔｏｒ　０ｕ　Ｇｕｏｅｈｅｎｇ　Ｇｏｕ　Ｙｏｎｇｔａｏ　Ｊｉａｎｇ　Ｙｉｎｇ　Ｚｈａｎｇ　Ｒａｏ　（Ｌｕｔｉａｎｈｕａ　Ｇｒｏｕｐ　Ｃｏｍｐａｎｙ　Ｌｔｄ．，Ｓｉｃｈｕａｎ，Ｌｕｚｈｏｕ　６４６３００，Ｃｈｉｎａ）　Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｔｈｅ　ｍｅｔｈｏｄ　ｏｆ　ｓｙｎｔｈｅｓｉｚｉｎｇ　ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｓｉｌａｎｅ　ｉｎ　ｓｌｕｒｒｙ　ｒｅａｃｔｏｒ，ｔｈｅ　ｅｆｆｅｃｔ　ｏｆ　ｍｅｄｉｕｍ，　ｃａｔａｌｙｚｅｒ，ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ　ｏｎ　ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｓｉｌａｎｅ　ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　ｗａｓ　ｄｉｓｃｕｓｓｅｄ　ｉｎ　ｔｈｉｓ　ａｒｔｉｃｌｅ．Ｔｈｅ　ｈａｒｎｅｓｓ　ｏｆ　ｔａｉｌ　ｇａｓ　ｏｆ　ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｓｉｌａｎｅ　ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　ｆｕｒｎａｃｅ　ｗａｓ　ａｌｓｏ　ｓｕｍｍａｒｉｚｅｄ．　Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：Ｓｌｕｒｒｙ　ｒｅａｃｔｏｒ；Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｓｉｌａｎｅ　使拉晶成品率提高１０个百分点。该公司此次研制　晶龙电子级石英坩埚替代进口　的新产品——ｌ６英寸电子级双层石英与进口产品　相比，克服了黑点、二次污染、附着物多、杂质多、　两种石英砂熔点不一致导致外壁不平等问题，产　品杂质补偿度小，成晶更好，而且将坩埚价格拉低　了】０００多元。　河北晶龙集团自主研发的１６英寸电子级双　层石英坩埚以低价、高质、性能稳定在该集团取代　进口产品投入使用，年可降低采购成本６００余万　元。　晶龙集团在国内率先解决了坩埚内大气泡　问题，其自主研发并应用的坩埚涂层核心技术可　摘自：《中化新网》