专利名称：一种掩膜板、阵列基板、其制作方法及显示装置专利类型：发明专利
发明人：吕振华,米磊,尤杨,薛艳娜,王磊,李治福申请号：CN201610371606.5申请日：20160530公开号：CN106054516A公开日：20161026
摘要：本发明公开了一种掩膜板、阵列基板、其制作方法及显示装置，掩膜板包括间隔设置的遮光区域和透光区域，以及设置在至少部分遮光区域与透光区域之间的半透光区域；半透光区域具有锯齿状图形。由于现有的掩膜板中半透光区域相对应的区域为遮光区域，使用现有曝光设备进行曝光时，透光区域的曝光不足，使透光区域本该被曝光的区域仍存在粘连，从而影响曝光线度。因此，通过在至少部分遮光区域与透光区域之间设置半透光区域，在同等曝光条件下，可以提高透光区域的曝光强度，从而可以进一步减小曝光线度，使得TFT沟道的长度减小，使其符合高PPI的生产需求；还可以减小布线区的线距，缩小布线区占用空间，使其符合窄边框要求。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人：黄志华
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