专利名称：基于数字微镜阵列制作不同深度的多台阶光栅的无
掩模光刻机
专利类型：发明专利
发明人：邓茜,刘俊伯,赵立新,胡松,司新春,邓钦元,周毅申请号：CN201510601326.4申请日：20150918公开号：CN105137720A公开日：20151209
摘要：本发明公开了一种基于数字微镜阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机，包括：光源照明系统、DMD数字微镜阵列、投影光刻物镜、X-Y步进工作台、对准控制系统、X-Y精密步进工作台和计算机。光源发出的光束经光学系统扩束、准直、均匀后照射到数字式微镜阵列掩模版(DMD)上，投射其上的光源光束经DMD反射后将成像在投影光刻物镜的入射光瞳处，最后由投影光识别灰度图片的掩模信息，再经成像系统的传输、校准及缩放后透过各光学物镜投射至胶层表面，诱导胶层内发生光化学反应；灰度值不同对应的投射光功率密度不同，光刻胶固化深度不同；通过控制图片掩模的灰度值并对其曝光、显影、刻蚀，即可实现不同深度的多台阶光栅的制作。
申请人：中国科学院光电技术研究所
地址：610209 四川省成都市双流350信箱
国籍：CN
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