专利名称：模板制备方法专利类型：发明专利发明人：郭康,王路
申请号：CN201980000008.9申请日：20190103公开号：CN111656283A公开日：20200911
摘要：一种模板制备方法，包括：提供基底(100)；在基底(100)上形成光刻胶图案(200)；以光刻胶图案(200)为掩模构图基底(100)，且形成光刻胶图案(200)包括：在基底(100)上形成间隔排布的多个第一图案(210)；在多个第一图案(210)上形成第一材料层(300)；利用第一材料层(300)为掩模构图至少一个第一图案(210)，使得第一图案(210)形成为至少一个第一子图案(211)；以及去除第一材料层(300)；其中，在垂直于基底(100)所在面的方向上，第一材料层(300)至少覆盖至少一个第一图案(210)的一侧。上述方法可以提高模板的精细度。
申请人：京东方科技集团股份有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：赵国荣
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