专利名称：光束投射设备和系统专利类型：发明专利
发明人：李受营,玉虫秀一,金炳局,安秉燮申请号：CN201610991851.6申请日：20161110公开号：CN107065440A公开日：20170818
摘要：一种系统包括孔洞阵列，包括：多个活动孔洞，所述活动孔洞中的各个孔洞被配置为选择性偏转穿过其的光束。所述系统还包括限制孔洞，被配置为使没有被活动孔洞偏转的光束通过至目标对象。所述系统还包括控制电路，被配置为控制活动孔洞以提供第一和第二不同的暴露持续时间分辨率。
申请人：三星电子株式会社
地址：韩国京畿道
国籍：KR
代理机构：北京市柳沈律师事务所
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