专利名称：光学多层结构专利类型：发明专利
发明人：T·伊施卡瓦,J·F·埃尔曼,D·J·马萨,E·N·蒙特巴赫,D·M·
特加登
申请号：CN200480031615.5申请日：20041013公开号：CN1875413A公开日：20061206
摘要：公开了一种光学多层结构，其包含具有非零平面外双折射率的聚合物基材和包含无定形聚合物的无定形聚合物覆盖层，该无定形聚合物具有高于160℃的Tg值并且具有与所述聚合物基材相反的平面外双折射率符号，从而使所述光学多层结构的总平面外相位延迟对于在400到700nm之间的光的波长，在－30nm和30nm之间。
申请人：伊斯曼柯达公司
地址：美国纽约州
国籍：US
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
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