专利名称：一种基于磁共振成像的光散射测量装置专利类型：实用新型专利
发明人：刘子龙,蒋依芹,甘海勇,张巧香申请号：CN201820522550.3申请日：20180413公开号：CN208076700U公开日：20181109
摘要：本实用新型提供了一种基于磁共振成像的光散射测量装置，用于测量样品表面对光散射强度的分布，包括：筒形骨架、射频线圈、梯度线圈、筒形磁体，筒形骨架的周壁的内表面包围形成样品放置腔；射频线圈缠绕于筒形骨架的周壁的外表面；梯度线圈缠绕于射频线圈的外层；筒形磁体环绕在梯度线圈的外层；多条光纤，多条光纤分别在筒形骨架的多个径向角度上穿透筒形骨架的周壁，并且多条光纤的末端在样品放置腔内暴露，以允许来自多条光纤的光束馈入样品放置腔、以及样品放置腔内的散射光从多条光纤馈出。该基于磁共振成像的光散射测量装置的测量效率高，准确性高，并且通过磁共振成像获得连续的光散射强度分布的灰度图，可提供连续的光散射强度的信号值。
申请人：中国计量科学研究院
地址：100013 北京市朝阳区北三环东路18号
国籍：CN
代理机构：北京德琦知识产权代理有限公司
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