专利名称：正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法专利类型：发明专利
发明人：岩井武,久保田尚孝,藤村悟史,羽田英夫申请号：CN02824118.5申请日：20021129公开号：CN1599885A公开日：20050323
摘要：本发明提供一种正型光刻胶组合物，其包含：(A)一种在主链中含有仅衍生自丙烯酸酯的单元的树脂组分，对于该树脂组分，其在碱中的溶解度在酸的作用下增大，和(B)一种通过曝光生成酸的酸生成剂组分，(C)一种有机溶剂组分，其中所述的树脂组分(A)是一种共聚物，所述共聚物包含(a1)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其包含一种比2－甲基－2－金刚烷基更容易消除的多环溶解抑制基团作为侧链上的可酸离解的溶解抑制基团，(a2)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其在侧链中包含一种含内酯的多环基团，和(a3)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其在侧链中包含一种含羟基的多环基团；以及使用这种组合的光刻胶图案形成方法。
申请人：东京应化工业株式会社
地址：日本神奈川县
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：王旭
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