ITO薄膜发展
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发布时间：2024-10-23 21:07
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时间：2024-11-06 09:36
自19世纪末，科学家们对ITO薄膜的研究正式启动，当时的焦点在于在光电导材料上实现极薄的金属层沉积。这一领域的进展在第二次世界大战期间迎来了新的转折点，主要用于飞机的防冰窗户玻璃，显著提升了透明度与导电性能。
1950年，一项重大突破发生，In2O3，即氧化铟，第二种透明半导体氧化物被成功合成。尤其当In2O3中掺入了锡元素后，这种材料在透明导电薄膜的应用领域展现出了强大的潜力。其优异的透明性和导电性，为它在电子设备中的广泛应用铺平了道路，预示着广阔的市场前景和无限的可能性。
总的来说，ITO薄膜的发展历程见证了从基础研究到实际应用的转变，每一次技术革新都推动了其在航空、电子显示等领域的广泛应用，前景光明且充满活力。
